فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک دارای ۱۱۲ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک۲ ارائه میگردد

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

---

بخشی از متن فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک :

فایل ورد کامل پژوهش علمی درباره ITO و ویژگی‌های آن؛ بررسی ساختارها، کاربردها و مطالعات مهندسی مواد و الکترونیک

فصل اول

۱-۱- معرفی ITO و ویژگی های آن

۱-۱-۱- خواص عمومی و ساختار فیزیکی

۱-۱-۲- خواص الکتریکی

۱-۱-۳- تحرک حامل های آزاد؛ مکانیزم پراکندگی

۱-۱-۴- ویژگی های اپتیکی

۱-۱-۵- ثابتهای اپتیکی

۱-۱-۶- ساختار باند

۱-۲- روشهای لایه نشانی ITO

۱-۲-۱- تبخیر حرارتی

۱-۲-۲- لایه گذاری به روش بخار شیمیایی

۱-۲-۳- افشانه گرما کافت (Spry pyrolysis)

۱-۲-۴- چاپ صفحه ای (screen printing)

۱-۲-۵- لایه گذاری توسط باریکه الکترونی (e – beam)

۱-۲-۶- لایه گذاری به روش بخار شیمیایی

۱-۳- تماس نیمه هادی ITO

۱-۳-۱- تحلیل دیاگرام باند انرژی تماس MS

فصل دوم

۳-۱ عملیات قبل از لایه نشانی

۳-۱-۱- استفاده از محلول (RCA)

۳-۱-۲- استفاده از حمام اولتراسونیک

۳-۱-۳- گرما دهی به زیر لایه

۳-۲ عملیات لایه نشانی

۳-۲-۱- کندوپاش

۳-۲-۲- اساس مکانیزم کندوپاش

۳-۲-۳- dc کندوپاش

۳-۲-۴- rf کندوپاش

۳-۲-۵- مگنترون کندوپاش

۳-۲-۶- کندوپاش واکنشی

۳-۲-۷- مزیت های فرایند کندوپاش

۳-۲-۸- سیستم لایه نشانی مورد استفاده در این پروژه

۳-۲-۹- تاثیر فاصله بین هدف و زیرلایه بر خواص فیلم ITO

۳-۲-۱۰- تاثیر فشار جزئی اکسیژن روی ویژگی های فیلم ITO

– عملیات پس از لایه نشانی

– فرایند پس گرمایش

فصل چهارم

۴-۱- الگودهی به نمونه ها

۴-۱-۱- طراحی و ساخت الگو

۴-۱-۲- انواع فتورزیست

۴-۱-۳- روش Lift-off

۴-۱-۴- روش زدایش (etching)

۴-۱-۴-۱- زدایش خشک

۴-۱-۴-۲- زدایش تر

۴-۲- ضخامت سنجی

۴-۳- اندازه گیری مقاومت تماس

۴-۴- اندازه گیری مقاومت ورقه ای

۴-۴-۱- پروب چهار نقطه ای

۴-۵- روش های کریستالوگرافی

۴-۵-۱- بررسی با کمک میکروسکوپ نوری

۴-۵-۲- بررسی با میکروسکوپ الکترونی

۴-۵-۳- میکروسکوپ اسکن کننده الکترونی (SEM) و تحلیل تفکیک کننده اشعه ایکس (EDX)

۴-۵-۴- میکروسکوپ انتقال دهنده الکترون (TEM)

۴-۵-۶- شناسایی بر اساس تفرق اشعه ایکس (XRD)

۴-۵-۷- RBS

۴-۵-۸- بررسی با کمک میکروسکوپ نیرو اتمی (AFM)

۴-۶- طیف سنجی فروسرخ

۴-۶-۱- فرایند جذب فروسرخ

۴-۶-۲- موارد کاربرد طیف فروسرخ

۴-۶-۳- حرکات ارتعاشی

۴-۶-۴- دستگاه طیف سنج فروسرخ