فایل ورد کامل مقاله پژوهشی درباره اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‌های نازک فلزی Zn بر مورفولوژی و ویژگی‌های ساختاری نانوسیم‌های اکسید روی


در حال بارگذاری
10 جولای 2025
فایل ورد و پاورپوینت
20870
2 بازدید
۹۹,۰۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 فایل ورد کامل مقاله پژوهشی درباره اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‌های نازک فلزی Zn بر مورفولوژی و ویژگی‌های ساختاری نانوسیم‌های اکسید روی دارای ۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد فایل ورد کامل مقاله پژوهشی درباره اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‌های نازک فلزی Zn بر مورفولوژی و ویژگی‌های ساختاری نانوسیم‌های اکسید روی  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی فایل ورد کامل مقاله پژوهشی درباره اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‌های نازک فلزی Zn بر مورفولوژی و ویژگی‌های ساختاری نانوسیم‌های اکسید روی،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد


بخشی از متن فایل ورد کامل مقاله پژوهشی درباره اثر مدت زمان اکسیداسیون حرارتی لایه‌های نازک فلزی Zn بر مورفولوژی و ویژگی‌های ساختاری نانوسیم‌های اکسید روی :

چکیده

در این پژوهش نانو سیم های اکسیدروی با خواص ساختاری بالا از طریق اکسیداسیون حرارتی لایه های نازک Zn فلزی رشد داده شدند. فیلم های Zn با ضخامت ۲۵۰ نانومتر با استفاده از تکنیک تبخیر در خلاء بر روی زیرلایه شیشه لایه نشانی گردیدند. فشار محفظه خلاء ۱۰-۵ Torr بود. جهت رشد نانوسیم های اکسید روی،

فیلم های Zn لایه نشانی شده به مدت ۳۰ دقیقه، ۱ساعت و ۳ ساعت در دمای ۶۰۰۰C در محیط هوا با استفاده از یک کوره افقی اکسید شدند. مورفولوژی سطح نمونه ها با استفاده از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی مشخص گردید و نتایج نشان داد که با افزایش مدت زمان فرآیند اکسیداسیون، میزان شکل گیری و ابعاد نانو سیم های اکسید روی افزایش می یابد. در طیف EDX نمونه ها به جزء اکسیژن و روی عنصر دیگری یافت نشد که نشان دهنده خلوص بالای نانوسیم های اکسید روی رشد یافته است. نتایج حاصل از آنالیز XRD همچنین نشان داد نانو سیم های اکسید روی دارای ساختار ورتسایت با پیک ترجیحی قوی (۰۰۲) اکسید روی می باشد.

مقدمه

اکسید روی یک نیمرسانای نوع n است که با توجه به خواص ویژه از جمله گاف انرژی پهن و مستقیم (۳/۳۷eV) و انرژی بستگی اکسایتونی بالا (۶۰meV)، دارای کاربردهای فراوانی در

سنسورهای گازی، سلول های خورشیدی، الکترودهای رسانای شفاف و آشکار کننده های نور فرابنفش می باشد .[۱]
نانوساختارهای یک بعدی اکسید روی به ویژه نانو سیم ها و نانو میله ها بدلیل اینکه کاندید مناسب تری برای کاربردهای ذکر

۳۸

شده جهت تولید وسایل نانو مقیاس جدید می باشند، توجه محققان زیادی را به خود جلب کرده اند .[۲]

جهت رشد نانو سیم های اکسید روی تکنیک های مختلفی به مانند لایه نشانی بخار شیمیایی [۳]، لایه نشانی لیزر پالسی [۴]،

سل- ژل [۵] و اسپری پیرولیزز [۶] استفاده شده است. روش ساده و کارآمد دیگری که کمتر برای تهیه نانو ساختارهای اکسید روی مورد استفاده قرار گرفته است، اکسیداسیون حرارتی فیلم های نازک Zn فلزی در محیط های اکسیژن است .[۷] وانگ و همکارانش لایه های نازک با کیفیت بالا اکسید روی را از طریق اکسیداسیون گرمایی فیلم های Zn فلزی در هوا رشد دادند .[۸] به هرجهت اکثر تحقیقات در این زمینه معطوف به رشد فیلم های نازک اکسید روی بوده است و تاکنون مطالعه جدی پیرامون اثر مدت زمان فرآیند اکسیداسیون لایه های نازک Zn فلزی بر روی رشد نانو سیم های اکسید روی در محیط هوا گزارش نشده است.

در این پژوهش نانوسیم های اکسید روی با کیفیـت سـاختاری بالا توسط تکنیک اکسیداسیون حرارتی لایه های نازک Zn فلزی با ضخامت ۲۵۰ نانومتر به مدت ۳۰دقیقه، ۱سـاعت و ۳ سـاعت در محیط هوا رشد داده شد.

  راهنمای خرید:
  • لینک دانلود فایل بلافاصله بعد از پرداخت وجه به نمایش در خواهد آمد.
  • همچنین لینک دانلود به ایمیل شما ارسال خواهد شد به همین دلیل ایمیل خود را به دقت وارد نمایید.
  • ممکن است ایمیل ارسالی به پوشه اسپم یا Bulk ایمیل شما ارسال شده باشد.
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.